TFT-LCD技术

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导读

前言

第1章 TFT-LCD技术概要

1.1 TFT-LCD技术发展历史

1.2 液晶显示器的分类

1.3 矩阵式液晶显示器的工作原理

1.4 TFT-LCD的基本结构

第2章 液晶的基本物理特性

2.1 液晶的相结构与分类

2.2 液晶的连续弹性体理论

2.3 弗里德里克斯转变（Fredericksz Transition）

2.4 液晶的表面配向

2.5 液晶指向矢分布的数值计算方法

2.6 光在液晶显示器中的传播

第3章 LCD模式及其特性

3.1 扭曲向列相（Twisted Nematic，TN）模式

3.2 共面开关（In-Plain Switching，IPS）模式

3.3 边缘场开关（Fringe-Field Switching，FFS）模式

3.4 垂直取向（Vertical Alignment，VA）模式

第4章 TFT结构与工作原理

4.1 半导体器件基础

4.2 薄膜晶体管

4.3 非晶硅TFT

4.4 多晶硅TFT

第5章 TFT-LCD面板结构与显示原理

5.1 TFT-LCD面板结构

5.2 TFT-LCD的工作原理

5.3 灰阶与彩色显示原理

5.4 影响TFT-LCD显示特性的因素

第6章 TFT-LCD显示特性改善技术

6.1 开口率

6.2 视角（Viewing Angle）

6.3 响应时间

6.4 移动图像响应特性

6.5 精确显示色彩（Accurate Color Capture，ACC）技术

6.6 色序法

6.7 光学补偿弯曲（Optically Compensated Bend，OCB）模式

第7章 非晶硅TFT-LCD工艺流程与制造技术

7.1 TFT-array与DRAM比较

7.2 TFT-array基板制作

7.3 TFT-array制造技术

7.4 4Mask工艺

7.5 CF制造技术

7.6 成盒制造技术

7.7 模块（Module）制造技术

第8章 非晶硅TFT-LCD不良检查与分析

8.1 不良检查

8.2 不良分析方法

8.3 不良发生原因

8.4 不良分析案例

第9章 低温多晶硅TFT工艺流程与制造技术

9.1 低温多晶硅TFT-LCD与非晶硅TFT-LCD比较

9.2 低温多晶硅TFT-array工艺流程

9.3 低温多晶硅TFT制造技术

9.4 PMOS LTPS技术

第10章 TFT器件及显示技术的进展与展望

10.1 有机TFT（Organic TFT，OTFT）

10.2 氧化物TFT

10.3 反射型与半反半透型LCD

10.4 三维（3D：Three Dimension）立体显示

10.5 透明显示器

10.6 柔性显示技术

附录A TFT-LCD用玻璃

附录B 常用气体特性

附录C 常用化学材料特性

附录D TFT-LCD生产用材料规格