1.3.3　薄膜晶体

薄膜科学已经发展成为内容极其丰富而且非常活跃的研究领域。随着微电子学、光电子学的发展，研制亚微米、纳米级薄膜制造各种功能器件已成必要之事。这种薄膜包括单晶薄膜、超微粒薄膜、小晶粒多晶薄膜、非晶薄膜和有机薄膜等。单晶薄膜大多是在衬底（基片）上形成的，因此在制备单晶薄膜时，衬底材料的选择最为重要，这关系到所生长的单晶薄膜的质量以及能否生成单晶薄膜。外延生长对衬底材料的要求，最重要的是衬底的晶格常数与薄膜晶体的晶格常数相匹配，即两者的失配程度越小越好。习惯上常用［2（a₂-a₁）/（a₂+a₁）］（单位：%）表示晶格失配的程度，其中a₁、a₂分别为衬底与薄膜晶格常数。从衬底上生长单晶薄膜，已有了许多方法，其中最主要的有化学气相沉积（CVD）、液相外延、金属有机化合物气相沉积（MOCVD）和分子束外延（MBE）以及溶胶、凝胶等方法。在选定的衬底上严格地控制沉积的外延工艺条件，是制备优质单晶薄膜的关键。