1　物理气相沉积

气相沉积技术是制备薄膜的常用技术之一，是将成膜物质气化输运到基体上沉积为固相薄膜。气相沉积的特点是成膜物质广泛，即固体、液体或气体都可作为成膜物质进行气相沉积反应。气相沉积一般可分为物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition,PVD）和化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）。