光学真空镀膜技术

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内容概述

PREFACE 前言

第1章 光学镀膜基础

1.1 光学薄膜理论基础

1.1.1 平面电磁波在单一界面上的反射和折射

1.1.2 菲涅尔公式

1.1.3 光学薄膜特性的理论计算

1.2 光学薄膜设计

1.2.1 增透膜的设计

1.2.2 高反膜的设计

1.2.3 分光膜的设计

1.2.4 干涉滤光片

1.3 光学薄膜材料

1.3.1 金属薄膜材料

1.3.2 介质和半导体薄膜材料

1.3.3 金属膜与介质膜的比较

第2章 光学薄膜制备技术

2.1 真空及真空设备

2.1.1 真空技术知识及主要术语定义

2.1.2 获得真空所需的设备

2.1.3 真空的测量

2.2 热蒸发镀膜工艺

2.2.1 热蒸发镀膜机理介绍

2.2.2 热蒸发镀膜工艺分类

2.2.3 离子束辅助沉积工艺介绍

2.2.4 影响热蒸发镀膜质量的工艺参数

2.3 溅射镀膜工艺

2.3.1 溅射镀膜机理介绍

2.3.2 溅射镀膜工艺分类

2.3.3 影响溅射镀膜质量的工艺参数

第3章 光学薄膜检测技术

3.1 光学薄膜反射率和透过率测量

3.1.1 光谱分析测试系统原理

3.1.2 薄膜透过率测量

3.1.3 薄膜反射率测量

3.1.4 影响测量准确度的因素

3.2 光学薄膜厚度的测量

3.2.1 干涉法测量薄膜厚度

3.2.2 轮廓法测量薄膜厚度

3.2.3 其他测量方法

3.3 光学薄膜激光损伤阈值测量

3.3.1 光学薄膜损伤测量标准及判定

3.3.2 几类激光损伤阈值测量方法介绍

3.3.3 激光损伤测试装置

3.3.4 1-on-1损伤测试标准过程

3.4 光学薄膜其他参数测量

3.4.1 薄膜的吸收和散射测量

3.4.2 薄膜材料折射率测量

3.4.3 薄膜散射测量

3.4.4 薄膜折射率测量

参考文献