石墨烯薄膜制备

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内容提要

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前言

英文缩写/全称/中文对照（按照字母顺序排列）

第1章 石墨烯简介

1.1 发展历程

1.2 结构与性质

1.3 分类及命名

1.4 结构表征与性能测量

1.5 石墨烯的应用

1.6 制备方法

参考文献

第2章 化学气相沉积技术

2.1 CVD的特征、分类及发展

2.2 CVD反应原理

2.3 真空技术基础

2.4 CVD系统简介

2.5 CVD反应过程控制

2.6 CVD制备石墨烯概述

参考文献

第3章 石墨烯的成核与生长

3.1 石墨烯CVD生长过程

3.2 气相反应

3.3 甲烷的吸附与分解

3.4 活性基团

3.5 石墨烯的成核

3.6 石墨烯单晶的生长形状

参考文献

第4章 石墨烯单晶制备

4.1 石墨烯成核密度的控制

4.2 同取向外延生长

参考文献

第5章 石墨烯的层数控制

5.1 表面控制生长

5.2 溶解度控制生长

参考文献

第6章 石墨烯薄膜的转移

6.1 聚合物辅助基底刻蚀法

6.2 聚合物辅助剥离法

6.3 直接转移法

参考文献

第7章 面向工业应用的石墨烯薄膜制备

7.1 低温制备技术

7.2 非金属基底制备技术

7.3 大面积及工业化制备

参考文献

第8章 总结与展望